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3000℃实验代加工

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3000℃实验代加工

3000℃实验代加工是一种真空石墨化炉,主要应用于聚酰亚胺薄膜的石墨化,使之成为高导热石墨膜。PI膜石墨化炉也可应用于石墨烯石墨化,负极材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶复合材料的烧结和石墨化,还可应用于工业陶瓷,粉末冶金材料等产品的高温烧结和石墨化。

产品介绍

  •   3000℃实验代加工是一种真空石墨化炉,主要应用于聚酰亚胺薄膜的石墨化,使之成为高导热石墨膜。PI膜石墨化炉也可应用于石墨烯石墨化,负极材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶复合材料的烧结和石墨化,还可应用于工业陶瓷,粉末冶金材料等产品的高温烧结和石墨化。


      

     3000℃实验代加工

    参数名称

    用于实验

    用于生产

    NTG-SML-150W

    NTG-SML-200W

    NTG-SML-250W

    NTG-SML-350W

    NTG-SML-500W

    NTG-SML-700W

    300*300*600

    350*350*800

    450*450*900

    520*520*1600

    600*600*1600

    800*800*2000

    加热方式

    /

    IGBT

    高温区容积

    L

    54

    98

    182

    432

    576

    1280

    装载量

    g

          高温区容积*产品密度(g/cm3)*1000        注:1L=1000cm3;

    输入电源

    /

    三相五线制 380V50Hz/60Hz

    设备构造

    /

    一台电源柜控制一个炉体     注:可选一拖二,或者一拖四

    炉型结构

    /

    卧式

    中频电源功率

    Kw

    150

    200

    250

    350

    500

    700

    中频电源频率

    Hz

    1500

    1000

    1000

    1000

    1000

    1000

    最高使用温度

    3000

    3000

    3000

    2900

    2900

    2900

    常用工作温度

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    恒温区温差

    ±5

    ±5

    ±10

    ±10

    ±15

    ±15

    炉内工作环境

    /

    真空状态或ArN2气氛保护(微正压)

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